Простий
пошук
Розширений
пошук
Покажчики
Професійний
пошук
Рубрикатор
НБУВ
Розподілений
пошук

Бази даних

Наукова періодика України - результати пошуку

Книжкові видання та компакт-диски
Журнали та продовжувані видання
Автореферати дисертацій
Реферативна база даних
Наукова періодика України
Тематичний навігатор
Авторитетний файл імен осіб
Mozilla Firefox Для швидкої роботи та реалізації всіх функціональних можливостей пошукової системи використовуйте браузер
"Mozilla Firefox"
Вид пошуку
Повнотекстовий пошук
 Знайдено в інших БД:Реферативна база даних (2)
Список видань за алфавітом назв:
A  B  C  D  E  F  G  H  I  J  L  M  N  O  P  R  S  T  U  V  W  
А  Б  В  Г  Ґ  Д  Е  Є  Ж  З  И  І  К  Л  М  Н  О  П  Р  С  Т  У  Ф  Х  Ц  Ч  Ш  Щ  Э  Ю  Я  

Авторський покажчик    Покажчик назв публікацій


Пошуковий запит: (<.>A=Mulenko S$<.>)
Загальна кількість знайдених документів : 3
Представлено документи з 1 до 3
1.

Mulenko S. A. 
Pulsed laser deposition of thin iron and chromium silicide films with large thermoelectromotive force coefficient [Електронний ресурс] / S. A. Mulenko // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології. - 2014. - Т. 12, Вип. 3. - С. 623-632. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/Nano_2014_12_3_17
Наноструктуры в форме тонких пленок, которые проявили полупроводниковые свойства, с узкой энергетической запрещенной зоной были осаждены методом импульсного лазерного осаждения (PLD) из мишеней CrSi2 и <$E beta>-FeSi2 с применением эксимерного KrF-лазера. Пленки, осажденные из мишени CrSi2 на подложку << 100 >> Si при температурах 293 К и 740 К, имели ширину запрещенной зоны <$E E sub g~symbol @~0,09> эВ и 0,18 эВ соответственно. Пленки, осажденные из мишени <$E beta>-FeSi2 на подложку << 100 >> Si при тех же условиях, имели ширину запрещенной зоны <$E E sub g~symbol @~0,16> эВ и 0,31 эВ соответственно. Наибольшее значение коэффициента термоэдс (коэффициента Зеебека) S для пленок на основе CrSi2 при осаждении на нагретую подложку при 740 К составляет около 1,4 мВ/К при <$E 300~symbol Г~T~symbol Г~340> К. Наибольшее значение коэффициента S для пленок на основе <$E beta>-FeSi2 при осаждении на нагретую так же подложку составляет около 1,5 мВ/К в том же интервале температур. Чем больше Eg, тем большее значение было установлено для коэффициента S. Рентгенодифракционный анализ показал, что пленки, осажденные на Si-подложки, имели поликристаллическую структуру, а пленки, осажденные на SiO2-подложки, были аморфными. Что касается коэффициента S для пленок, осажденных на подложки Si и SiO2, то он для поликристаллических пленок оказался больше, чем для аморфных. Чем больше концентрация полупроводниковой фазы в осажденных пленках, тем больше коэффициент S. Таким образом, PLD-метод с применением эксимерного KrF-лазера является эффективным методом осаждения наноструктур в форме тонких пленок, которые весьма удобны для термосенсоров, работающих при умеренных температурах.
Попередній перегляд:   Завантажити - 500.58 Kb    Зміст випуску    Реферативна БД     Цитування
2.

Brodyn M. S. 
Cubic optical nonlinearity of thin Fe2O3 and Cr2O3 films synthesized by pulsed laser deposition [Електронний ресурс] / M. S. Brodyn, S. A. Mulenko, V. I. Rudenko, V. R. Liakhovetskyi, M. V. Volovyk, N. Stefan // Ukrainian journal of physics. - 2016. - Vol. 61, № 6. - С. 495-501. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/Ukjourph_2016_61_6_7
Попередній перегляд:   Завантажити - 1.041 Mb    Зміст випуску     Цитування
3.

Shlianina A. 
The role of educational work in educational institutions in order to prevent the influence of harmful factors on the human body [Електронний ресурс] / A. Shlianina, I. Shelуuk, S. Mulenko, E. Shemet // ScienceRise. Pedagogical Education. - 2021. - № 6. - С. 35-39. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/texcped_2021_6_9
Попередній перегляд:   Завантажити - 504.826 Kb    Зміст випуску     Цитування
 
Відділ наукової організації електронних інформаційних ресурсів
Пам`ятка користувача

Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського